B2 光刻，刻蚀工艺工程师

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宁波硕士研究生 5-10年若干人 2023-12-14发布查看公告详情

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职位详情

基本信息

职位名称：B2 光刻，刻蚀工艺工程师

职位类型：实验技术岗

工作地点：浙江宁波

招聘人数：若干

报名方式：站内投递

截止时间：详见正文

用人部门：信息材料与微纳器件制造平台

其他要求

学历要求：硕士研究生

工作经验：5-10年

需求专业：

专业未分类

该需求专业仅展示一级学科

岗位职责

1、负责微纳半导体器件制备光刻工艺的开发，包括涂胶，曝光，显影等工艺；以及干法刻蚀工艺的开发，包括RIE、ICP等离子体刻蚀工艺，Asher、plasma striper 等离子体清洗、去胶工艺，离子束（IBE）物理刻蚀工艺，形成研究成果，并负责行业调研分析，提出创新性解决方案及实施落地；
2、负责光刻工艺实验设计并执行，并对工艺进行详细的表征；
3、负责干法刻蚀，离子注入工艺实验设计并执行，负责采集数据、数据分析，对工艺参数进行持续的优化、监控以及维护；
4、制定工艺方法、操作流程和规范，建立相关的作业指导书与技术文件，对现场操作人员进行培训与考核管理；
5、主导工艺在线异常原因分析，提出改进方案并解决；
6、负责器件光罩图案（MASK）设计，Tape out, 光罩管理等；
7、负责新设备（涂胶设备，曝光设备，显影设备，CD/overlay测量设备），新工艺，新物料(光刻胶，显影液等) 的调研，评估，论证，导入，验证等；
8、完成实验室交办的其他工作任务。

任职要求

1、硕士及以上学位；
2、了解半导体微纳器件工艺开发及原理，熟悉半导体开发，制造，生产基础知识，5年以上微纳器件制备加工工艺开发经验；。
3、熟悉业界主流光刻涂胶，曝光，显影设备及其性能，具有丰富的光刻工艺研发工作经验；
4、熟悉光刻工艺的光罩图案设计，光罩制造，光罩管理；
5、熟悉业界主流干法刻蚀设备及其性能，具有丰富的干法刻蚀工艺研发工作经验；
6、具有良好的逻辑分析能力、书面表达能力、人际沟通能力，以及良好的英文阅读及书写能力；
7、优秀的团队精神、交流能力，具备良好的沟通协调能力，积极主动，能与团队协同高效完成任务。

其他说明

发展舞台及安心保障
1、实验室薪酬水平参照国内一流科研机构水平及国内一线高技术企业水平，具有市场竞争力的薪酬体系；
2、完善的绩效奖励机制，高标准缴纳社保及公积金，提供星空餐厅、带薪休假、工会福利等；
3、提供基础研究、工程技术、成果转化、支撑、管理等多元发展通道；
4、协助高层次人才解决住房、子女入学等问题。

应聘材料
个人最新简历（包括基本信息、学习经历、科研/工作经历、代表性成果）

竞争力分析

解锁详细分析

您与该职位匹配度: ***，已超过了 *** 的竞争者，建议************

较低

一般

比较匹配

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职位联系人

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